beamLIGHT+HHG光源系統(tǒng)
- --
德國(guó) hp spectroscopy HHG 光源系統(tǒng)
一站式 HHG 光源
? 可連續(xù)穩(wěn)定運(yùn)行數(shù)周,無(wú)需重新校準(zhǔn)
? 維護(hù)工作量低,用戶可專注于實(shí)驗(yàn)本身
? 模塊化系統(tǒng)設(shè)計(jì),優(yōu)異的可維護(hù)性和可操作性
長(zhǎng)期穩(wěn)定的氣體靶系統(tǒng)
? 更高激光損傷閾值(LIDT),耐用性強(qiáng),可實(shí)現(xiàn)數(shù)月穩(wěn)定恒定的氣體流量
? 高精度閉環(huán)定位系統(tǒng)
? 閉環(huán)氣體流量控制器
? 可快速切換固體靶和旋轉(zhuǎn)靶? 減少 XUV 再吸收,提高信號(hào)強(qiáng)度
? 氣體負(fù)載降低 10^-4
XUV 光譜濾光片
? 分段式濾膜設(shè)計(jì),適用于共線泵浦/探測(cè)實(shí)驗(yàn)
? 改善散熱性能,適用于高強(qiáng)度光束,并可實(shí)現(xiàn)數(shù)月穩(wěn)定運(yùn)行

用于研究激光等離子體中高次諧波產(chǎn)生(HHG)的一站式系統(tǒng)。
配備靈活的電動(dòng)靶站系統(tǒng),可支持旋轉(zhuǎn)靶、平面固體靶以及氣體靶。
提供多種光束接入方式,適用于等離子體雙色泵浦實(shí)驗(yàn)。
集成倍頻模塊(Frequency-Doubling Stage)和適用于高強(qiáng)度光束的光譜濾波單元。

(1)交叉鉆孔氣體靶,可實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行并保持恒定氣體流量。由于其高耐用性,可在全光束條件下方便對(duì)準(zhǔn)。
(2)真空除油器(vacuum skimmer),用于減少 XUV 的再吸收。
在線光譜儀
原位光源表征. 無(wú)狹縫平場(chǎng)光譜儀,支持光束旁路設(shè)計(jì)
. 無(wú)需對(duì)準(zhǔn)敏感的窄入射狹縫
. 光收集效率約為標(biāo)準(zhǔn)光譜儀的 20 倍,從而顯著提升信噪比(SNR). 全自動(dòng)化控制,便于軟件操作
. 可選成像光譜功能
. 可選光束分析儀(Beam Profiler)
. 可選校準(zhǔn)光電二極管
. 可選波前傳感器定制化
. 每臺(tái)光譜儀均根據(jù)具體應(yīng)用需求進(jìn)行定制,例如:
. 光束線集成
. 輔助接口與觀察窗口

用于原位 HHG 光源表征的緊湊型光譜儀,工作于水窗波段。采用無(wú)入射狹縫的直接光源成像設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)最高效率并提升日常運(yùn)行穩(wěn)定性。旁路模式下可保持無(wú)畸變光束輸出。配備超高真空(UHV)系統(tǒng)。縱向尺寸小于 0.5 m。所有參數(shù)均可通過(guò)軟件遠(yuǎn)程控制。

有在線光譜儀的類光束視角。通過(guò)閉環(huán)定位器實(shí)現(xiàn)旁路模式與光譜測(cè)量模式之間切換。
實(shí)驗(yàn)靶站配置
. 具有減振隔離設(shè)計(jì)的超高真空(UHV)腔體結(jié)構(gòu)
. 支持多種實(shí)驗(yàn)配置方案
. 儀器靈活集成 ——TOF)、VMI、X射線光電子能譜(XPS)等
XUV/VIS-IR 光束重合
. 雙反射鏡組件,用于共線幾何結(jié)構(gòu)
. 環(huán)面鏡,用于非共線幾何結(jié)構(gòu)
定制化
通過(guò)對(duì)需求的全面評(píng)估以及協(xié)同設(shè)計(jì)流程,確保靶室實(shí)現(xiàn)最高性能。

用于共線光束再聚焦的 XUV/VIS-IR 雙反射鏡延遲組件。時(shí)間分辨率可達(dá) ±3 as。具備 5 個(gè)自由度調(diào)節(jié)??蓪?shí)現(xiàn)截止區(qū)的光譜隔離。由于采用高精度光學(xué)成形分段結(jié)構(gòu),波前畸變極低。

用于泵浦-探測(cè)阿秒實(shí)驗(yàn)的雙反射鏡系統(tǒng)。采用針對(duì)特定能量選擇的定制鏡面鍍膜,以實(shí)現(xiàn)可靠的單阿秒脈沖產(chǎn)生。
性能指標(biāo)
|
阿秒脈沖波長(zhǎng) |
6-120nm / 10-200eV * |
|
|
孤立阿秒脈沖波長(zhǎng) 光通量波動(dòng) |
6-16nm / 80-200eV * <3% rms in 12 hours * |
|
|
指向波動(dòng) |
<3urad rms in 12 hours * |
|
|
工作氣壓 |
<10^-9mbar (<10^-11mbar available) |
|
|
調(diào)節(jié)運(yùn)動(dòng) |
手動(dòng)或電動(dòng) |
|
|
定制化 |
完全定制化 |
|
|
|
60nm / 21eV |
13.5nm / 90eV |
|
每個(gè)諧波的平均功率每個(gè)諧波的光子通量諧波帶寬 |
up to 400uW * up to 10^14 ph/s * <10^-2 |
up to 0.9uW * up to 5·10^10 ph/s * <5·10^-3 |


























































































13810233784
在線咨詢
